MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：6
- 题名/责任者:
- 超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一著
- 出版发行项:
- 北京:科学出版社,2016
- ISBN及定价:
- 978-7-03-048268-6/CNY359.00
- 载体形态项:
- 15,558页:图;24cm
- 个人责任者:
- 韦亚一 著
- 学科主题:
- 超大规模集成电路-光刻系统-研究
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 中图法分类号:
- TN3
- 一般附注:
- 中国科学院科学出版基金资助出版
- 提要文摘附注:
- 本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN3/54 | 5200067361 | 总馆—产企信息服务中心 | 可借 | 产企信息服务中心 | |
| TN3/54 | 5200067362 | 总馆—产企信息服务中心 | 可借 | 产企信息服务中心 |
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