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检索到 6 条 分类号=TN305.7 的结果    

 


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  1. 中文图书1.半导体湿法刻蚀加工技术 TN3/74

    馆藏复本：2
    可借复本：2     陈云, 陈新著
    科学出版社 2023.9
    (0) 馆藏

  2. 中文图书2.超大规模集成电路先进光刻理论与应用 TN3/54

    馆藏复本：2
    可借复本：2     韦亚一著
    科学出版社 2016
    (0) 馆藏

  3. 中文图书3.半导体先进光刻理论与技术 TN3/55

    馆藏复本：2
    可借复本：2     (德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著
    化学工业出版社 2023
    (0) 馆藏

  4. 中文图书4.半导体干法刻蚀技术 TN3/65

    馆藏复本：2
    可借复本：2     (日)野尻一男著
    机械工业出版社 2024
    (0) 馆藏

  5. 中文图书5.半导体干法刻蚀技术:原子层工艺 TN3/21

    馆藏复本：3
    可借复本：3     (美) 索斯藤·莱尔著
    机械工业出版社 2023.9
    (0) 馆藏

  6. 中文图书6.产业专利分析报告.第84册,高端光刻机 G306/2:84

    馆藏复本：1
    可借复本：1     国家知识产权局学术委员会组织编写
    知识产权出版社有限责任公司 2022.07
    (0) 馆藏

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