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• 200 1_ |a 超大规模集成电路先进光刻理论与应用 |A chao da gui mo ji cheng dian lu xian jin guang ke li lun yu ying yong |f 韦亚一著

• 210 __ |a 北京 |c 科学出版社 |d 2016

• 215 __ |a 15,558页 |c 图 |d 24cm

• 300 __ |a 中国科学院科学出版基金资助出版

• 330 __ |a 本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺，内容直接取材于国际先进集成电路制造技术，为了保证先进性，特别侧重于32nm节点以下的技术。

• 606 0_ |a 超大规模集成电路 |x 光刻系统 |x 研究

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 690 __ |a TN3 |v 4

• 701 _0 |a 韦亚一 |A wei ya yi |4 著

• 801 _0 |a CN |b 91MARC |c 20161019

• 905 __ |a JBXQLIB |d TN3/54