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题名/责任者:

折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用/张新宇，谢长生著

出版发行项:

北京:国防工业出版社,2021.10

ISBN及定价:

978-7-118-12284-8 精装/CNY169.00

载体形态项:

211页:图;24cm

丛编项:

现代微纳光学光电成像探测技术丛书

个人责任者:

张新宇 著

个人责任者:

谢长生 著

学科主题:

刻蚀-研究

中图法分类号:

TN405.98

中图法分类号:

TN4

提要文摘附注:

本书主要内容包括：折射和衍射微光学变换，准连续相位分布的衍射微光学结构，适用于毫米级近场的衍射微光学结构，可见光、红外线以及多谱光学强度图像，复杂波前基础理论；衍射微光学结构的设计与仿真，单步光刻和两步法KOH湿法蚀刻，微光学图像，波前结构的设计与工艺、测试与评估等；宽频激光对抗条件下的非相干成像探测，强度图像与复杂波前出射的基本方法；激光图像发射、静态或动态图像与波前仿真环境构建，图像隐身、基于频谱空间分离的成像探测对抗等。

使用对象附注:

刻蚀研究人员

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