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• 000 01377nam0 2200277 450

• 001 0000358921

• 005 20230919093800.0

• 010 __ |a 978-7-118-12284-8 |b 精装 |d CNY169.00

• 100 __ |a 20211221d2021 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a a z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 折射衍射微光学结构的单步光刻与湿法蚀刻原理与应用 |A zhe she yan she wei guang xue jie gou de dan bu guang ke yu shi fa shi ke yuan li yu ying yong |b 专著 |f 张新宇，谢长生著

• 210 __ |a 北京 |c 国防工业出版社 |d 2021.10

• 215 __ |a 211页 |c 图 |d 24cm

• 225 1_ |a 现代微纳光学光电成像探测技术丛书 |A Xian Dai Wei Na Guang Xue Guang Dian Cheng Xiang Tan Ce Ji Shu Cong Shu

• 330 __ |a 本书主要内容包括：折射和衍射微光学变换，准连续相位分布的衍射微光学结构，适用于毫米级近场的衍射微光学结构，可见光、红外线以及多谱光学强度图像，复杂波前基础理论；衍射微光学结构的设计与仿真，单步光刻和两步法KOH湿法蚀刻，微光学图像，波前结构的设计与工艺、测试与评估等；宽频激光对抗条件下的非相干成像探测，强度图像与复杂波前出射的基本方法；激光图像发射、静态或动态图像与波前仿真环境构建，图像隐身、基于频谱空间分离的成像探测对抗等。

• 333 __ |a 刻蚀研究人员

• 606 0_ |a 刻蚀 |A Ke Shi |x 研究

• 690 __ |a TN405.98 |v 5

• 690 __ |a TN4 |v 4

• 701 _0 |a 张新宇 |A zhang xin yu |4 著

• 701 _0 |a 谢长生 |A xie chang sheng |4 著

• 801 _0 |a CN |b 人天书店 |c 20211221

• 905 __ |a JBXQLIB |d TN4/30