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题名/责任者:

纳米集成电路制造工艺/张汝京等编著

版本说明:

第2版

出版发行项:

北京:清华大学出版社,2017.1

ISBN及定价:

978-7-302-45233-1/CNY89.00

载体形态项:

xiv, 471页:图;26cm

并列正题名:

Nanoscale integrated circuits——the manufacturing process

个人责任者:

张汝京 编著

学科主题:

纳米材料-集成电路工艺

中图法分类号:

TN405

版本附注:

2014年第1版

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM（Design for Manufacturing），集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。

使用对象附注:

国内从事半导体产业的科研工作者、技术工作者和研究生可使用本书作为教科书或参考资料。

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