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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:11

题名/责任者:
半导体先进光刻理论与技术/(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著 李思坤译
出版发行项:
北京:化学工业出版社,2023
ISBN及定价:
978-7-122-43276-6 精装/CNY198.00
载体形态项:
304页:图,照片;24cm
并列正题名:
Optical and EUV lithography: a modeling perspective
个人责任者:
(德) 爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著
个人次要责任者:
李思坤
学科主题:
半导体光电器件-光刻设备-研究
中图法分类号:
TN305.7
中图法分类号:
TN3
版本附注:
SPIE授权出版
提要文摘附注:
本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等,包括光刻技术的前沿进展,还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。
全部MARC细节信息>>
索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态 还书位置
TN3/55 5200067373   总馆—产企信息服务中心     可借 产企信息服务中心
TN3/55 5200067374   总馆—产企信息服务中心     可借 一卡通中心
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