MARC状态：审校 文献类型：中文图书 浏览次数：2
- 题名/责任者:
- 产业专利分析报告.第84册.高端光刻机/国家知识产权局学术委员会组织编写
- 出版发行项:
- 北京:知识产权出版社有限责任公司,2022.07
- ISBN及定价:
- 978-7-5130-8195-5/CNY70.00
- 载体形态项:
- 149页:图;26cm
- 团体责任者:
- 国家知识产权局学术委员会 组织编写
- 学科主题:
- 专利-研究报告-世界
- 学科主题:
- 光刻设备-专利-研究报告-世界
- 中图法分类号:
- G306.71
- 中图法分类号:
- TN305.7
- 中图法分类号:
- G306
- 提要文摘附注:
- 本书是高端光刻机领域的专利分析报告，从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报，主要技术分支专利等方面入手，充分结合相关数据展开分析，得出扎实的研究结论和相关建议。主要内容包括：概况、专利壁垒指数模型研究、高端光刻机全球竞争情报分析、EUV光源专利分析、投影物镜专利分析等。
- 使用对象附注:
- 专利分析相关研究人员
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| G306/2:84 | 5200001316 | 总馆—产企信息服务中心 | 可借 | 产企信息服务中心 |
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