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题名/责任者:

半导体先进光刻理论与技术/(德)安德里亚斯·爱德曼(Andreas Erdmann)著 李思坤译

出版发行项:

北京:化学工业出版社,2023

ISBN及定价:

978-7-122-43276-6 精装/CNY198.00

载体形态项:

304页:图，照片;24cm

并列正题名:

Optical and EUV lithography: a modeling perspective

个人责任者:

(德) 爱德曼 (Erdmann, Andreas) 著

个人次要责任者:

李思坤 译

学科主题:

半导体光电器件-光刻设备-研究

中图法分类号:

TN305.7

中图法分类号:

TN3

版本附注:

SPIE授权出版

提要文摘附注:

本书介绍了当前主流的光学光刻、先进的极紫外光刻以及下一代光刻技术。主要内容涵盖了光刻理论、工艺、材料、设备、关键部件、分辨率增强、建模与仿真、典型物理与化学效应等，包括光刻技术的前沿进展，还总结了极紫外光刻的特点、存在问题与发展方向。

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