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题名/责任者:

半导体工艺与集成电路制造技术/韩郑生 ... [等] 编著

出版发行项:

北京:科学出版社,2023.3

ISBN及定价:

978-7-03-075060-0/CNY178.00

载体形态项:

xiii, 558页:图;24cm

并列正题名:

Semiconductor process and integrated circuit manufacturing technology

丛编项:

中国科学院大学研究生教材系列

个人责任者:

韩郑生 编著

个人责任者:

罗军 编著

个人责任者:

殷华湘 编著

学科主题:

半导体集成电路-集成电路工艺-研究生-教材

中图法分类号:

TN430.5

中图法分类号:

TN43

题名责任附注:

题名页题其余编著者：罗军、殷华湘、赵超

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书将系统地介绍微电子制造科学原理与工程技术，覆盖集成电路制造所涉及的晶圆材料、扩散、氧化、离子注入、光刻、刻蚀、薄膜淀积、测试及封装等单项工艺，以及以互补金属氧化物半导体(CMOS)集成电路为主线的工艺集成。对单项工艺除了讲述相关的物理和化学原理外，还介绍一些相关的工艺设备。

使用对象附注:

高等院校微电子、集成电路及微电子机械、光电器件、传感器等相关专业研究生

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