- 题名/责任者:
- 微电子制造原理与工艺/张威,李宇杰,刘威主编
- 出版发行项:
- 哈尔滨:哈尔滨工业大学出版社,2020
- ISBN及定价:
- 978-7-5603-9056-7/CNY44.00
- 载体形态项:
- 314页:图;26cm
- 丛编项:
- 材料科学研究与工程技术系列图书
- 个人责任者:
- 张威 主编
- 个人责任者:
- 李宇杰 主编
- 个人责任者:
- 刘威 主编
- 学科主题:
- 微电子技术-高等学校-教材
- 中图法分类号:
- TN4
- 一般附注:
- “双一流”建设精品出版工程 “十三五”国家重点出版物出版规划项目
- 责任者附注:
- 张威,哈尔滨工业大学材料科学与工程学院,讲师。主持并参与国家自然科学基金重点课题、军委科技委1军品863、山东省科技攻关项目等科研课题6项。获中国机械工业科学技术二等奖和黑龙江省高校科学技术一等奖各 1项。近年来,在J. Mater. Sci. Technol, Mater. Lett.等期刊上发表研究论文20余篇。研究方向:微电子器件及封装的建模与仿真。
- 书目附注:
- 有书目
- 提要文摘附注:
- 本书首先介绍微电子制造的技术背景、工艺现状以及发展趋势,并阐述作为半导体衬底材料的单晶硅的生长方法及硅片的制造工艺;然后从基本原理和工艺过程两方面,阐述热氧化、热扩散、离子注入光刻、刻蚀、蒸发、溅射、化学气相淀积、外延等微电子制造单项工艺过程;再以典型互补金属氧化物半导体(CMOS)器件为例,介绍制造完整器件并实现集成电路中各器件间隔离和金属化互连的关键工艺技术以及工艺集成的具体步骤;最后介绍工艺监控及电学测...
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| 索书号 | 条码号 | 年卷期 | 校区—馆藏地 | 书刊状态 | 还书位置 |
| TN4/36 | 5200624290 | 总馆—产企信息服务中心 | 可借 | 产企信息服务中心 |
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