机读格式显示(MARC)
- 000 00895nam0 2200229 450
- 010 __ |a 978-7-5221-0384-6 |d CNY66.00
- 100 __ |a 20210305d2021 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 离子注入法制备石墨烯 |A li zi zhu ru fa zhi bei shi mo xi |f 张瑞著
- 210 __ |a 北京 |c 中国原子能出版社 |d 2021
- 215 __ |a 210页 |c 图,照片 |d 24cm
- 330 __ |a 本书就团簇离子注入合成低缺陷石墨烯,超低能负团簇离子束系统及其在制备少层石墨烯中的应用,直接在衬底上合成石墨烯,负碳团簇离子注入铜箔制备石墨烯,碳化硅上合成石墨烯:通过碳团簇和氩离子注入降低石墨化温度,离子束混合技术在SiC上无转移合成类石墨烯的原子级薄碳膜等多个方面做了介绍。
- 606 0_ |a 石墨 |x 纳米材料 |x 制备
- 701 _0 |a 张瑞 |A zhang rui |4 著
- 801 _0 |a CN |b 91MARC |c 20210315
- 905 __ |a JBXQLIB |d TB383/123