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• 000 01185nam0 2200277 450

• 001 0000322522

• 005 20230823154100.0

• 010 __ |a 978-7-5130-8195-5 |d CNY70.00

• 100 __ |a 20220831d2022 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a ak z 001yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 产业专利分析报告 |A chan ye zhuan li fen xi bao gao |h 第84册 |i 高端光刻机 |b 专著 |f 国家知识产权局学术委员会组织编写

• 210 __ |a 北京 |c 知识产权出版社有限责任公司 |d 2022.07

• 215 __ |a 149页 |c 图 |d 26cm

• 330 __ |a 本书是高端光刻机领域的专利分析报告，从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报，主要技术分支专利等方面入手，充分结合相关数据展开分析，得出扎实的研究结论和相关建议。主要内容包括：概况、专利壁垒指数模型研究、高端光刻机全球竞争情报分析、EUV光源专利分析、投影物镜专利分析等。

• 333 __ |a 专利分析相关研究人员

• 606 0_ |a 专利 |A Zhuan Li |x 研究报告 |y 世界

• 606 0_ |a 光刻设备 |A Guang Ke She Bei |x 专利 |x 研究报告 |y 世界

• 690 __ |a G306.71 |v 5

• 690 __ |a TN305.7 |v 5

• 690 __ |a G306 |v 4

• 711 02 |a 国家知识产权局学术委员会 |A guo jia zhi shi chan quan ju xue shu wei yuan hui |4 组织编写

• 801 _0 |a CN |b 人天书店 |c 20220831

• 905 __ |a JBXQLIB |d G306/2:84