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- 200 1_ |a 产业专利分析报告 |A chan ye zhuan li fen xi bao gao |h 第84册 |i 高端光刻机 |b 专著 |f 国家知识产权局学术委员会组织编写
- 210 __ |a 北京 |c 知识产权出版社有限责任公司 |d 2022.07
- 215 __ |a 149页 |c 图 |d 26cm
- 330 __ |a 本书是高端光刻机领域的专利分析报告,从该领域的发展概况、专利壁垒指数模型研究、竞争情报,主要技术分支专利等方面入手,充分结合相关数据展开分析,得出扎实的研究结论和相关建议。主要内容包括:概况、专利壁垒指数模型研究、高端光刻机全球竞争情报分析、EUV光源专利分析、投影物镜专利分析等。
- 606 0_ |a 专利 |A Zhuan Li |x 研究报告 |y 世界
- 606 0_ |a 光刻设备 |A Guang Ke She Bei |x 专利 |x 研究报告 |y 世界
- 711 02 |a 国家知识产权局学术委员会 |A guo jia zhi shi chan quan ju xue shu wei yuan hui |4 组织编写
- 801 _0 |a CN |b 人天书店 |c 20220831
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