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• 000 00997nam0 2200289 450

• 001 0000410580

• 005 20240128175900.0

• 010 __ |a 7-81077-534-0 |d CNY26.00

• 100 __ |a 20050119d2005 em y0chiy50 ea

• 101 0_ |a chi

• 102 __ |a CN |b 110000

• 105 __ |a y z 000yy

• 106 __ |a r

• 200 1_ |a 功能膜层的电沉积理论与技术 |A gong neng mo ceng de dian chen ji li lun yu ji shu |f 朱立群编著

• 210 __ |a 北京 |c 北京航空航天大学出版社 |d 2005

• 215 __ |a 298页 |d 23cm

• 300 __ |a 国防科工委“十五”规划教材 材料科学与工程

• 306 __ |a 与北京理工大学出版社、西北工业大学出版社、哈尔滨工业大学出版社、哈尔滨工程大学出版社合作出版

• 330 __ |a 本书内容包括：金属镀层的电沉积基础、电沉积的基本原理、金属材料表面的镀前处理、单金属镀层的电沉积、电子工业常用镀层的电沉积等。

• 606 0_ |a 金属 |x 电沉积

• 606 0_ |a 金属

• 606 0_ |a 电沉积

• 690 __ |a O646.54 |v 4

• 690 __ |a O646 |v 4

• 701 _0 |a 朱立群 |A zhu li qun |4 编著

• 801 _0 |a CN |b 91MARC |c 20130904

• 905 __ |a JBXQLIB |d O646/16