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- 010 __ |a 978-7-313-18651-5 |d CNY88.00
- 100 __ |a 20190320d2018 em y0chiy50 ea
- 200 1_ |a 集成电路制造技术 |9 ji cheng dian lu zhi zao ji shu |b 专著 |f 张亚非,段力编著
- 210 __ |a 上海 |c 上海交通大学出版社 |d 2018
- 215 __ |a 439页 |c 图 |d 26cm
- 330 __ |a 本书主要讲述集成电路与微纳制造工艺技术,既有基本原理和工艺技术的阐述,也有国内外近期发展状况的介绍。本书把集成电路的工艺技术分类为图形化(光刻)、加法(薄膜的技术)、减法(刻蚀技术)、乘除法(离子注入、sidicide)及其集成电路工程学(良率、可靠性)和集成电路后勤工作(超净间、IC衍生产业链)几大类,便于学生掌握记忆和类推。
- 701 _0 |a 张亚非 |9 zhang ya fei |c (电子学) |4 编著
- 701 _0 |a 段力 |9 duan li |c (电子学) |4 编著
- 801 _2 |a CN |b OLCC |c 20190706
- 905 __ |a JBXQLIB |d TN405/22