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题名/责任者:

知识产权制度中的公共领域问题研究.第2卷/冯晓青主编

出版发行项:

北京:中国政法大学出版社,2023.2

ISBN及定价:

978-7-5764-0813-3/CNY119.00

载体形态项:

439页:图;23cm

个人责任者:

冯晓青 主编

学科主题:

知识产权制度-研究-中国

中图法分类号:

D923.04

中图法分类号:

D923

一般附注:

国家社会科学基金重大项目“创新驱动新发展战略下知识产权公共领域问题研究”系列阶段性成果

书目附注:

有书目

提要文摘附注:

本书包括“专利法与公共领域问题” “商标法与公共领域问题” “公共领域视野下知识产权滥用、垄断及其法律规制”等部分：“专利法与公共领域问题”部分我国专利法中的现有技术抗辩制度、现有设计抗辩制度与公共领域的关系进行了清晰的解读，并从维护公共领域的角度提出了完善我国现有制度抗辩、现有设计抗辩制度的观点；“商标法与公共领域问题”部分在分析商标专用权、禁止权和公共领域的基础上，阐明了商标法上公共领域的表征和价值，为专门研究和理解商标法的价值构造提供了一种新的进路；“公共领域视野下知识产权滥用、垄断及其法律规制”部分就著作权滥用，涉及的反垄断问题，从保留公共领域的角度进行了深度解剖，针对实践中存在的专利权滥用现象，从有效维护公共领域的角度提出了规制对策。

使用对象附注:

法学研究人员。

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