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MARC状态:审校 文献类型:中文图书 浏览次数:6

题名/责任者:
硅锗低维材料可控生长/马英杰[等]著
出版发行项:
北京:科学出版社,2021
ISBN及定价:
978-7-03-068516-2/CNY145.00
载体形态项:
255页:图;24cm
并列正题名:
Controllable growth of low-dimensional SiGe materials
丛编项:
先进功能材料丛书
个人责任者:
马英杰
学科主题:
半导体材料-纳米材料-研究
中图法分类号:
TN304
中图法分类号:
TB383
中图法分类号:
TN3
题名责任附注:
著者还有:蒋最敏、周通、钟振扬
提要文摘附注:
本书将介绍利用分子束外延在硅基低维材料可控生长及其物理特性研究方面的进展,包括图形硅衬底和斜切Si衬底的制备;硅锗低维结构可控生长机理;硅锗量子点、量子点分子、量子环等纳米结构的生长;硅锗量子点晶体的生长及其物理特性;光子晶体微腔中单个锗量子点的可控生长及其发光特性;斜切Si衬底上高密度量子点、量子线的可控生长及其物理特性等方面的内容。
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索书号 条码号 年卷期 校区—馆藏地 书刊状态 还书位置
TN3/48 5200067269   总馆—产企信息服务中心     可借 产企信息服务中心
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